光罩
带有孔或透明胶片的不透明板或薄膜,允许光线以定义的图案照射
光罩(英語:Reticle, Mask):在製作集成電路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/0/03/Semiconductor_photomask.jpg/300px-Semiconductor_photomask.jpg)
結構
編輯- 實體結構:佈滿集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
- 倍縮光罩(Reticle):在投影式微影機中,光罩作為一個光學元件位於會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它並不和晶圓有直接接觸。光罩上的圖形縮小4~10倍(現代微影機一般都是縮小4倍)後透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的光罩,投影式曝光中使用的光罩又被稱為倍縮式光罩(reticle)。
- 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
種類
編輯相位移光罩、二元光罩
參考文獻
編輯- ^ 光罩.Mask.Reticle. [2010-03-19]. (原始內容存檔於2010-10-03).
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