File:EVG 120 resist coater-developer at LAAS 0434.jpg
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原始檔案 （3,872 × 2,592 像素，檔案大小：4.24 MB，MIME 類型：image/jpeg）
摘要
| 描述 |
English: EVG 120 fully automated photoresist coater-developer under inactinic light at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Machine EVG 120 d'enduction et révélation automatisée de résine photosensible sous lumière inactinique à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France. |
| 日期 | |
| 來源 | 自己的作品 |
| 作者 | Guillaume Paumier (user:guillom) |
| 授權許可 (重用此檔案) |
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0 |
| 拍攝地點 |  | 位於此地的本圖片與其他圖片： OpenStreetMap |  |
|---|
Credit information:
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- Credit line on the web (with hyperlink): Guillaume Paumier, CC-BY.
- Printed publications: guillaumepaumier.com, CC-BY.
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檔案歷史
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| 日期/時間 | 縮圖 | 尺寸 | 用戶 | 備註 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 目前 | 2007年11月12日 (一) 09:23 | | 3,872 × 2,592（4.24 MB） | Guillom | ==Description== {{Information |Description={{en|EVG 120 fully automated en:photoresist coater-developer under en:inactinic light at fr:LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.}} {{fr|Machine EVG 120 d'e |
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