上海微电子
上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）是中国大陆半导体装备制造商，主要生产半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务[1]。
| 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | |
|---|---|
| Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | |
 | |
| 公司类型 | 上市公司 |
| 成立 | 2002年 |
| 总部 |  中华人民共和国上海市浦东新区张东路1525号 |
| 产业 | 半导体产业 |
| 产品 | 半导体 光刻系统 |
| 母公司 | 上海张江高科技园区开发股份有限公司 |
| 网站 | www |
沿革
编辑2018年，上海微电子装备所能投产的光刻机制程为90nm[2]，后于有传闻更精良的28nm光刻机制程据闻将于2021年首季投入使用[3][4][5]，但亦未确定28nm机型的量产能力，由于过去未如外国厂商集合商业联盟进行联合开发，在科研单位与业界支持力道不足下，因而销售市占主要仅在中低端光刻机与相关设备[6][7]，但随着美国向中国大陆禁运光刻机，中国国产光刻机的发展被广受关注[8]。
但2021年国产DUV并没有问世，据《第一财经》报导，近日发布的《中国集成电路产业人才发展报告（2020-2021年版）》显示中国大陆半导体人才短缺高达20余万人，中国大陆半导体产业的情况并不乐观[9]。
2022年7月7日，上海微电子举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的交付仪式，但该机器是用于芯片下游制造的先进封装光刻机，并非此前关注的用于芯片上游制造的光罩光刻机[10]。但涉及中低端装备、材料、检测的国产化进度可期，不少必要的下游合作同行，也正在逐渐攻克国产产业链[11]。现今，上海微电子装备生产的先进封装光刻机在中国大陆的市占率达80%，海外市占率达40%[10]。
到了2023年5月开始，不少网络消息声称更精良的首部先进光刻机研制终于进入尾声，编号为＂SSA/800-10W＂，据闻最快将于2023年末组装[12][13][14]，但是并没有更多证据流出，直到后来上海张江集团的一篇文章出台确认此机器为真，该相关企业为公司第四大股东与国有企业之一，表示上海微电已经开发出了中国首家28nm技术，但报导很快遭到修改。[15][16]
2024年9月，一款“氟化氩光刻机”，出现在重大技术装备推广应用指导目录，初代样机可能准备要进入下游厂商开始试验反馈，不过中国官方与厂商没有宣布进一步消息，良率也未知，但已经引发网民振奋，不过业内人士称数据上采用193nm光源，65纳米以下分辨率，套刻能力8nm（非多重光刻[17][18]）的光刻机，暂时还没有可能实现先进工艺[19][20]。从业多年的前台积电工程师吴梓豪指出，根据从业者那边知道的内情研判，大致上略弱于15年前的DUV干式光刻机“TWINSCAN XT 1450”，代入角分辨率公式测算仪器NA值只有0.75左右，离38nm以下精密度的机型是还有一定的差距的，光源功率不足，使得大规模量产更是不切实际，不过这是134nm浸润式光刻的基础，加上在制程配合试错，可以考虑从65nm这个节点开始加速追赶[21]，唯文章已经被撤下。半导体产业方面智库表示，应该减少短期宣传，例如反观日本尼康睽违二十年，用了本土的技术真正做出了全日系的浸润式机台“NSR-S636E”，但几乎没有大张旗鼓宣扬，有国产的机器跟拿来制造是两回事，毕竟厂家明白包含气泡产生、温度影响密度与流体稳定对光折射等等技术难点都没解决，从试产到能商业化量产的地步，过程一定是沉稳且漫长的[22][23]。电子行业分析师刘翔认为半导体太烧钱，补贴投入只是杯水车薪，需要着重经营模式投资才能获取长久效益，先专注成熟节点做到盈利反哺研发，是比较可行的选择[24]，经济分析师杨应超在世界周报节目中称，虽然客户中芯有比较先进可以参考的进口技术经验，加上国产光刻机终于开始测试，但中国大陆须走过45nm、32nm等等8个世代的这个差距是绕不开的[25]，而预期到迭代出全国产28纳米节点的程度，最快至少也是5年起跳，可能要到2030年代[26][27]。
光刻机产品
编辑参见
编辑参考来源
编辑- ^ 发展历程. [2018-11-07]. （原始内容存档于2020-10-05）.
- ^ 由国内三台光刻机开始的一些思考. [2018-11-07]. （原始内容存档于2018-11-07）.
- ^ 上海微電子28nm光刻機明年交付！意義何在？. [2020-06-07]. （原始内容存档于2020-12-07）.
- ^ 國內28nm光刻機有望明年出貨，離半導體自給自足又近了一步. [2020-12-07]. （原始内容存档于2022-02-11）.
- ^ China's 28nm-Capable Chip Fabbing Tool on Track Amid Trade War. [2020-12-06].
- ^ 為什麼光刻機比原子彈還難造？. [2021-01-28]. （原始内容存档于2021-02-04）.
- ^ 讲述上海微电子的故事，还原国产28nm光刻机真相. [2021-03-16]. （原始内容存档于2021-01-23）.
- ^ 觀點投書：中國向光刻機急起直追. [2020-12-22]. （原始内容存档于2021-01-04）.
- ^ 發展半導體產業 大陸未來兩年至少還缺20萬人才. [2021-11-18]. （原始内容存档于2021-11-18）.
- ^ 10.0 10.1 10.2 10.3 联合报记者黄雅慧. 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付. 联合新闻网. 2022-02-08 [2022-07-27]. （原始内容存档于2022-07-27） （中文（台湾））.
- ^ 中國晶片業擴張迅速 首台國產28奈米浸潤式光刻機有望年底交付 | Anue鉅亨 - A股. news.cnyes.com. [2024-09-15] （中文（台湾））.
- ^ 中國首台28nm光刻機到底有沒有出爐？聽起來有點太玄乎. [2023-05-09]. （原始内容存档于2023-08-07）.
- ^ 國產光刻機有望取得突破 首台國產28nm工藝沉浸式光刻機最快年底交付. [2023-08-03]. （原始内容存档于2023-08-07）.
- ^ Chinese firm expected to deliver 28nm chip machine at year-end: media report. [2023-08-01]. （原始内容存档于2023-10-09）.
- ^ 联合早报. 上海微電子據報成功研製出中國首台28納米光刻機. 香港01. 2023-12-20 [2024-09-15] （中文（香港））.
- ^ 上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-15] （中文（简体））.
- ^ 大型科普：多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率？？？. 华尔街见闻. 2023-08-31.
- ^ 全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？. tech.ifeng.com. [2024-09-20] （中文）.
- ^ 星岛日报. 中國研發出國產DUV曝光機 可產8納米及以下晶片. std.stheadline.com. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（香港））.
- ^ Storm.mg. 突破美國、ASML封鎖？中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（台湾））.
- ^ 中国国产光刻机取得突破 未透露良率 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-20] （中文（简体））.
- ^ 卢伯华. 頭條揭密》陸晶片產業遭「卡脖子」 買到光刻機也難解決.
- ^ 腾讯网. 国产套刻8nm光刻机引争议，我们追赶对象真的是ASML吗？_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中国大陆））.
- ^ cnBeta. 光刻机的自嗨与自知，根源在于产业机制 - 视点·观察. cnBeta.COM. [2024-09-20] （中文（中国大陆））.
- ^ Storm.mg. 中國成功自產光刻機舉國歡騰 楊應超曝真相：落後台積電整整8個世代-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-24 [2024-09-25] （中文（台湾））.
- ^ 美国梭哈，日荷跟进，中国芯片奋力一搏还是盖牌走人？. m.chinaaet.com. [2024-09-20].
- ^ 腾讯网. 国产光刻机突破28nm了吗_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中国大陆））.
- ^ 28.0 28.1 300系列光刻机. [2022-10-02]. （原始内容存档于2022-10-02）.