上海微電子
上海微電子裝備（集團）股份有限公司（簡稱SMEE）是中國大陸半導體裝備製造商，主要生產半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務[1]。
| 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 | |
|---|---|
| Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | |
 | |
| 公司類型 | 上市公司 |
| 成立 | 2002年 |
| 總部 |  中華人民共和國上海市浦東新區張東路1525號 |
| 產業 | 半導體產業 |
| 產品 | 半導體 光刻系統 |
| 母公司 | 上海張江高科技園區開發股份有限公司 |
| 網站 | www |
沿革
編輯2018年，上海微電子裝備所能投產的光刻機製程為90nm[2]，後於有傳聞更精良的28nm光刻機製程據聞將於2021年首季投入使用[3][4][5]，但亦未確定28nm機型的量產能力，由於過去未如外國廠商集合商業聯盟進行聯合開發，在科研單位與業界支援力道不足下，因而銷售市佔主要僅在中低階光刻機與相關裝置[6][7]，但隨着美國向中國大陸禁運光刻機，中國國產光刻機的發展被廣受關注[8]。
但2021年國產DUV並沒有問世，據《第一財經》報導，近日發佈的《中國集成電路產業人才發展報告（2020-2021年版）》顯示中國大陸半導體人才短缺高達20餘萬人，中國大陸半導體產業的情況並不樂觀[9]。
2022年7月7日，上海微電子舉行了首台2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於晶片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於晶片上游製造的光罩光刻機[10]。但涉及中低階裝備、材料、檢測的國產化進度可期，不少必要的下游合作同行，也正在逐漸攻克國產產業鏈[11]。現今，上海微電子裝備生產的先進封裝光刻機在中國大陸的市佔率達80%，海外市佔率達40%[10]。
到了2023年5月開始，不少網絡訊息聲稱更精良的首部先進光刻機研製終於進入尾聲，編號為＂SSA/800-10W＂，據聞最快將於2023年末組裝[12][13][14]，但是並沒有更多證據流出，直到後來上海張江集團的一篇文章出台確認此機器為真，該相關企業為公司第四大股東與國有企業之一，表示上海微電已經開發出了中國首家28nm技術，但報導很快遭到修改。[15][16]
2024年9月，一款「氟化氬光刻機」，出現在重大技術裝備推廣應用指導目錄，初代樣機可能準備要進入下游廠商開始試驗反饋，不過中國官方與廠商沒有宣佈進一步訊息，良率也未知，但已經引發網民振奮，不過業內人士稱數據上採用193nm光源，65納米以下解像度，套刻能力8nm（非多重光刻[17][18]）的光刻機，暫時還沒有可能實現先進工藝[19][20]。從業多年的前台積電工程師吳梓豪指出，根據從業者那邊知道的內情研判，大致上略弱於15年前的DUV乾式光刻機「TWINSCAN XT 1450」，代入角解像度公式測算儀器NA值只有0.75左右，離38nm以下精密度的機型是還有一定的差距的，光源功率不足，使得大規模量產更是不切實際，不過這是134nm浸潤式光刻的基礎，加上在製程配合試錯，可以考慮從65nm這個節點開始加速追趕[21]，唯文章已經被撤下。半導體產業方面智庫表示，應該減少短期宣傳，例如反觀日本尼康睽違二十年，用了本土的技術真正做出了全日系的浸潤式機台「NSR-S636E」，但幾乎沒有大張旗鼓宣揚，有國產的機器跟拿來製造是兩回事，畢竟廠家明白包含氣泡產生、溫度影響密度與流體穩定對光折射等等技術難點都沒解決，從試產到能商業化量產的地步，過程一定是沉穩且漫長的[22][23]。電子行業分析師劉翔認為半導體太燒錢，補貼投入只是杯水車薪，需要着重經營模式投資才能取得長久效益，先專注成熟節點做到盈利反哺研發，是比較可行的選擇[24]，經濟分析師楊應超在世界週報節目中稱，雖然客戶中芯有比較先進可以參考的進口技術經驗，加上國產光刻機終於開始測試，但中國大陸須走過45nm、32nm等等8個世代的這個差距是繞不開的[25]，而預期到迭代出全國產28納米節點的程度，最快至少也是5年起跳，可能要到2030年代[26][27]。
光刻機產品
編輯參見
編輯參考來源
編輯- ^ 发展历程. [2018-11-07]. （原始內容存檔於2020-10-05）.
- ^ 由国内三台光刻机开始的一些思考. [2018-11-07]. （原始內容存檔於2018-11-07）.
- ^ 上海微電子28nm光刻機明年交付！意義何在？. [2020-06-07]. （原始內容存檔於2020-12-07）.
- ^ 國內28nm光刻機有望明年出貨，離半導體自給自足又近了一步. [2020-12-07]. （原始內容存檔於2022-02-11）.
- ^ China's 28nm-Capable Chip Fabbing Tool on Track Amid Trade War. [2020-12-06].
- ^ 為什麼光刻機比原子彈還難造？. [2021-01-28]. （原始內容存檔於2021-02-04）.
- ^ 讲述上海微电子的故事，还原国产28nm光刻机真相. [2021-03-16]. （原始內容存檔於2021-01-23）.
- ^ 觀點投書：中國向光刻機急起直追. [2020-12-22]. （原始內容存檔於2021-01-04）.
- ^ 發展半導體產業 大陸未來兩年至少還缺20萬人才. [2021-11-18]. （原始內容存檔於2021-11-18）.
- ^ 10.0 10.1 10.2 10.3 聯合報記者黃雅慧. 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付. 聯合新聞網. 2022-02-08 [2022-07-27]. （原始內容存檔於2022-07-27） （中文（臺灣））.
- ^ 中國晶片業擴張迅速 首台國產28奈米浸潤式光刻機有望年底交付 | Anue鉅亨 - A股. news.cnyes.com. [2024-09-15] （中文（臺灣））.
- ^ 中國首台28nm光刻機到底有沒有出爐？聽起來有點太玄乎. [2023-05-09]. （原始內容存檔於2023-08-07）.
- ^ 國產光刻機有望取得突破 首台國產28nm工藝沉浸式光刻機最快年底交付. [2023-08-03]. （原始內容存檔於2023-08-07）.
- ^ Chinese firm expected to deliver 28nm chip machine at year-end: media report. [2023-08-01]. （原始內容存檔於2023-10-09）.
- ^ 聯合早報. 上海微電子據報成功研製出中國首台28納米光刻機. 香港01. 2023-12-20 [2024-09-15] （中文（香港））.
- ^ 上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-15] （中文（簡體））.
- ^ 大型科普：多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率？？？. 華爾街見聞. 2023-08-31.
- ^ 全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？. tech.ifeng.com. [2024-09-20] （中文）.
- ^ 星島日報. 中國研發出國產DUV曝光機 可產8納米及以下晶片. std.stheadline.com. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（香港））.
- ^ Storm.mg. 突破美國、ASML封鎖？中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（臺灣））.
- ^ 中国国产光刻机取得突破 未透露良率 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-20] （中文（簡體））.
- ^ 盧伯華. 頭條揭密》陸晶片產業遭「卡脖子」 買到光刻機也難解決.
- ^ 騰訊網. 国产套刻8nm光刻机引争议，我们追赶对象真的是ASML吗？_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中國大陸））.
- ^ cnBeta. 光刻机的自嗨与自知，根源在于产业机制 - 视点·观察. cnBeta.COM. [2024-09-20] （中文（中國大陸））.
- ^ Storm.mg. 中國成功自產光刻機舉國歡騰 楊應超曝真相：落後台積電整整8個世代-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-24 [2024-09-25] （中文（臺灣））.
- ^ 美国梭哈，日荷跟进，中国芯片奋力一搏还是盖牌走人？. m.chinaaet.com. [2024-09-20].
- ^ 騰訊網. 国产光刻机突破28nm了吗_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中國大陸））.
- ^ 28.0 28.1 300系列光刻机. [2022-10-02]. （原始內容存檔於2022-10-02）.