化学铣切是把零件浸入腐蚀溶液中,对裸露的表面进行腐蚀的加工工艺,主要用于金属。[1]

应用

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蚀刻在半导体制造工业中,用于制造集成电路;在航空航天工业中使用,可以在表面铣出凹坑、网格、筋条的薄壁件。[2] 

过程

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化学铣切有五个步骤:清洁、掩蔽、划线、蚀刻和解蔽。[1]

常见的腐蚀剂

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对于铝材可使用氢氧化钠

对于钢材可使用盐酸硝酸;对不锈钢可使用氯化铁;对低碳钢可使用硝酸乙醇(由硝酸和乙醇,甲醇,或甲基化酒精组成的混合物)。普通碳素钢常用2%的硝酸酒精。

对于铜材可使用氯化铜、氯化铁、过硫酸铵、氨、25-50%的硝酸、盐酸和过氧化氢的混合物等。

参考资料

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  1. ^ 1.0 1.1 Çakir, O.; Yardimeden, A.; Özben, T. Chemical machining (PDF). Archives of Materials Science and Engineering. August 2007, 28 (8): 499–502 [13 February 2013]. (原始内容 (PDF)存档于2015-04-12).  引用错误:带有name属性“smeCM”的<ref>标签用不同内容定义了多次
  2. ^ Fishlock, David. New Ways of Cutting Metal. New Scientist. 8 December 1960, 8 (212): 1535 [13 February 2013]. (原始内容存档于2021-03-10).