蚀刻是指以酸性腐蚀性或有研磨效用的物质在玻璃表面上创作的技术。传统上,这段过程是在玻璃吹制好或铸好之后进行的。

班克菲尔德博物馆英语Bankfield Museum的186个蚀刻玻璃

1920年代,人们发明一种新的模刻技术,即将图案直接刻在铸模上。所以当铸模好了之后,图案就已经在玻璃的表面上了。这项技术降低了制作成本,且结合彩色玻璃的广泛运用导致了1930年代便宜花瓶的出现,这些花瓶后来被称之为“Depression glass”。因为用在此过程中的酸剂很危险,现在大多是使用研磨的方法。

到了近代,现在的蚀刻应用在半导体的制程上,透过黄光制程来定义出想要的图形,利用蚀刻来得到。

半导体的蚀刻可分为干式蚀刻与湿式蚀刻:

  • 干式蚀刻:透过等离子解离,形成离子与物质表面进行化学反应或是物理轰击,属于非等向性的蚀刻。
  • 湿式蚀刻:利用化学的液体与物质进行化学反应。属于等向性的蚀刻。常用的蚀刻方式有:
    • 浸入式:将板浸入蚀刻液中,用排笔轻轻刷扫。
    • 泡沫式:用压缩空气将蚀刻液吹成泡沫,对板进行腐蚀。
    • 泼溅式:用离心力将蚀刻液泼溅到覆铜板上。
    • 喷淋式:用蚀刻机的塑料泵将蚀刻液氯化铁压送到喷头,呈雾状微粒高速喷淋到由传送带运送的覆铜板上,进行连续蚀刻。[1]

参见 编辑

参考文献 编辑

  1. ^ 沈小丰. 电子技术实践基础. 清华大学出版社. 2005. ISBN 9787302088455.