光罩检测
在微技术领域中,光罩检测(英语:mask inspection)是检查光罩制作正确性的操作技术[1]。用于定位光罩缺陷的是高级自动化系统,如扫描电子显微镜等[2]。“光罩检测”一词也可能非正式地指称真正写入光罩前的光罩资料检测(mask data inspection)[3]。
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/0/03/Semiconductor_photomask.jpg/250px-Semiconductor_photomask.jpg)
参考文献
编辑- ^ "VLSI technology: fundamentals and applications", by Yasuo Tarui, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Chapter 4: "Mask Inspection Technology"
- ^ ZEISS Webpage offering automated mask repair tools
- ^ "Design for manufacturability and yield for nano-scale CMOS", by Charles Chiang, Jamil Kawa, 2007, ISBN 1-4020-5187-5, p. 237
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