卓以和
美國華裔物理學家、電機工程師
卓以和（英语：Alfred Yi Cho，1937年7月10日—），籍贯北平，美国华裔物理学家，电器工程师，分子束外延（Molecular beam epitaxy）技术的鼻祖，量子级联镭射器的共同发明人，对Ⅲ－V族化合物半导体、金属和绝缘体的异质外延和人工结构的量子阱、超晶格及调制掺杂微结构材料系统地开展了大量先驱性的研究工作。
| 卓以和 | |
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| 出生 | 1937年7月10日  （87岁）北平市 |
| 母校 | |
| 职业 | 发明家 |
| 奖项 | 国家技术与创新奖章 (美国)、埃利奥特·克雷森奖章、IEEE荣誉奖章、拉姆福德奖、美国国家发明家名人堂、Morris N. Liebmann纪念奖、美国物理学会会士、詹姆斯·麦格罗蒂新材料奖、Willis E. Lamb Award |
生平
编辑卓以和于1937年生于北京。他的祖父卓定谋（字君庸）是中华民国第一届国大代表。1949年全家移住香港，就读于培正中学。
卓以和高中毕业后，留学美国，在伊利诺伊大学厄巴纳-香槟分校（University of Illinois at Urbana-Champaign）取得电气工程学士、硕士和博士学位。
卓以和的专长为应用物理科学和工程科学。主要的贡献是发明分子束外延（Molecular beam epitaxy）技术和量子级联镭射器（Quantum cascade laser）。
卓以和目前担任美国Alcatel-Lucent贝尔实验室半导体研究所助理副总裁。目前并担任中华民国教育部、工研院、中研院物理所顾问。
荣誉
编辑卓以和曾获选为
获奖：
家庭
编辑卓以和夫妇育有一儿三女。