三甲基矽烷
化合物
三甲基矽烷或三甲基矽化氫,是一種有機矽化合物,化學式為C3H10Si,結構簡式(CH3)3SiH。它是一種極易燃的物質。三甲基矽烷用於半導體工業中的電漿相腐蝕劑。[1]
三甲基矽烷 | |||
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識別 | |||
CAS號 | 993-07-7 | ||
ChemSpider | 63614 | ||
SMILES |
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性質 | |||
化學式 | C3H10Si | ||
摩爾質量 | 74.2 g·mol−1 | ||
密度 | 0.638 g cm-3 | ||
熔點 | -135.9 °C(137 K) | ||
沸點 | 6.7 °C(280 K) | ||
危險性 | |||
警示術語 | R:R12, R36/37/38 | ||
安全術語 | S:S9, S16, S26, S33 | ||
歐盟分類 | F | ||
NFPA 704 | |||
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。 |
參見
編輯參考資料
編輯- ^ Chen, Sheng-Wen; Wang, Yu-Sheng; Hu, Shao-Yu; Lee, Wen-Hsi; Chi, Chieh-Cheng; Wang, Ying-Lang. A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films. Materials. 2012, 5 (3): 377. doi:10.3390/ma5030377.
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