三甲基矽烷
化合物
三甲基矽烷或三甲基矽化氫，是一種有機矽化合物，化學式為C3H10Si，結構簡式(CH3)3SiH。它是一種極易燃的物質。三甲基矽烷用於半導體工業中的電漿相腐蝕劑。[1]
| 三甲基矽烷 | |||
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| 識別 | |||
| CAS號 | 993-07-7 
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| ChemSpider | 63614 | ||
| SMILES |
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| 性質 | |||
| 化學式 | C3H10Si | ||
| 摩爾質量 | 74.2 g·mol−1 | ||
| 密度 | 0.638 g cm-3 | ||
| 熔點 | -135.9 °C（137 K） | ||
| 沸點 | 6.7 °C（280 K） | ||
| 危險性 | |||
| 警示術語 | R：R12, R36/37/38 | ||
| 安全術語 | S：S9, S16, S26, S33 | ||
| 歐盟分類 |  F
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| NFPA 704 |
 4
2
1
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| 若非註明，所有數據均出自標準狀態（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
參見
編輯參考資料
編輯- ^ Chen, Sheng-Wen; Wang, Yu-Sheng; Hu, Shao-Yu; Lee, Wen-Hsi; Chi, Chieh-Cheng; Wang, Ying-Lang. A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films. Materials. 2012, 5 (3): 377. doi:10.3390/ma5030377.
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