林本坚 (1942年),中华民国学者、中央研究院院士,现任国立清华大学特聘研究讲座教授、半导体研究学院院长、台积电-清大联合研发中心主任,越南西贡堤岸(今胡志明市)人,籍贯广东潮安,曾任台积电研发副总经理,与杨光磊、蒋尚义、孙元成、梁孟松、余振华等人并称“台积电研发六骑士”[1]

生平 编辑

1942年,出生于越南堤岸的越南华侨家庭,在当地的中华民国侨校完成小学、中学至高二。1959年,以侨生身份插班进入台湾省立新竹中学高中三年级,后来在未以侨生身份加分的原始总分424分,录取当年最低录取分数423分的国立台湾大学电机工程学系,并于1963年毕业,后留学美国,虽获柏克莱加州大学录取,但因女友的关系,留在俄州并于1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[2][3]后任职于IBM,1984年担任研发部经理。[4][5] 1992年,从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理。2000年,回到台湾加入台积电[6]2002年,担任研发处长时,以浸润式微影技术,成功把摩尔定律推进六个世代,被誉为“浸润式微影之父”、“半导体界爱因斯坦”[7],后该技术为ASML看重并得到采用,2015年从台积电退休后,担任国立清华大学特聘研究讲座教授、半导体研究学院院长。[8][9]他同时本身是一位虔诚的基督徒。[10]

荣誉 编辑

参考来源 编辑

  1. ^ 專挑對手讓台積電痛…研發六騎士到梁孟松的恨18年前照見證歷史. [2023-09-14]. (原始内容存档于2023-09-19). 
  2. ^ 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 侨协杂志 (华侨协会总会). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167. 
  3. ^ 3.0 3.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. (原始内容存档于2021-01-26). 
  4. ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
  5. ^ 5.0 5.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. (原始内容存档于2019-03-08). 
  6. ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. (原始内容存档于2019-02-26). 
  7. ^ 浸潤式微影之父林本堅蝸居鞋盒辦公室作育人才| 產經. [2023-09-14]. (原始内容存档于2023-10-29). 
  8. ^ 8.0 8.1 8.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. (原始内容存档于2018-12-03). 
  9. ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. (原始内容存档于2018-12-03). 
  10. ^ 存档副本. [2021-03-16]. (原始内容存档于2021-01-21). 
  11. ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018]. (原始内容存档于2018-12-03).