草酰氟

化合物

草酰氟草酸的氟代衍生物,為平面分子[1]。它在刻蝕有着潛在應用,以替代有全球暖化潛勢的化合物使用。[2][3]

草酰氟
Structural formula of oxalyl fluoride
Ball-and-stick model of oxalyl fluoride
IUPAC名
Oxalyl difluoride
別名 乙二酰氟
識別
CAS號 359-40-0  checkY
PubChem 9668
ChemSpider 9287
SMILES
 
  • C(=O)(C(=O)F)F
InChI
 
  • 1/C2F2O2/c3-1(5)2(4)6
EINECS 206-630-4
性質
化學式 C2F2O2
摩爾質量 94.017 g·mol⁻¹
熔點 -3 °C(270 K)
沸點 26.6 °C(300 K)
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。

參見

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參考文獻

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  1. ^ 王冬梅, 耿志遠. 草酰氟分子(FCO)2的量子化學研究[J]. 寶雞文理學院學報(自科版), 2007, 27(1):49-53.
  2. ^ Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds頁面存檔備份,存於互聯網檔案館), US Patent 6635185.
  3. ^ Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc. Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool. J. Electrochem. Soc. 2001, 148 (3): G141–G149. doi:10.1149/1.1348263.