黄桑希兰(英文名:Jennie S. Hwang,1949年),材料科学家美国国家工程学院首位台裔华裔女院士。她的专业研究领域包括芯片封装的材料与制程。

黄桑希兰
出生1949年(74—75岁)
 中国大陆
国籍 中华民国
头衔
  • 美国国家工程院院士(1998)
  • 凯司西储大学教授
  • H-Technologies总裁
学术背景
教育程度台北市立第一女子高级中学
国立成功大学化学系
美国哥伦比亚大学硕士
肯特州立大学硕士
凯斯西储大学材料博士
母校台北市立第一女子中学
国立成功大学
美国哥伦比亚大学
肯特州立大学
凯斯西储大学
学术工作
主要领域表面黏着技术

生平

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于1949年出生于中国大陆,因为中国政权的易帜而随亲人来台。她的祖父与父母亲都曾担任大学教授。她毕业于台湾北一女中国立成功大学化学系。1976年取得美国哥伦比亚大学材料工程博士,是该校第一位女性材料博士。此后历任凯斯西储大学材料系教授、工学院杰出教授、学校董事,H-Technology集团总裁。1998年获选为美国国家工程学院院士,是该院首位台湾移民美国的华裔女院士。

黄桑院士除了学术界及企业界的杰出成就以外,她一直维持着从中学开始,就重视妆扮及穿着优雅的习惯。她也喜好舞蹈及歌唱。黄桑与夫婿育有一子一女。

参考文献

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Jennie S. Hwang页面存档备份,存于互联网档案馆