黃桑希蘭(英文名:Jennie S. Hwang,1949年),材料科學家美國國家工程學院首位台裔華裔女院士。她的專業研究領域包括晶片封裝的材料與製程。

黃桑希蘭
出生1949年(74—75歲)
 中國大陸
國籍 中華民國
頭銜
  • 美國國家工程院院士(1998)
  • 凱司西儲大學教授
  • H-Technologies總裁
學術背景
教育程度台北市立第一女子高級中學
國立成功大學化學系
美國哥倫比亞大學碩士
肯特州立大學碩士
凱斯西儲大學材料博士
母校臺北市立第一女子中學
國立成功大學
美國哥倫比亞大學
肯特州立大學
凱斯西儲大學
學術工作
主要領域表面黏著技術

生平

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於1949年出生於中國大陸,因為中國政權的易幟而隨親人來台。她的祖父與父母親都曾擔任大學教授。她畢業於台灣北一女中國立成功大學化學系。1976年取得美國哥倫比亞大學材料工程博士,是該校第一位女性材料博士。此後歷任凱斯西儲大學材料系教授、工學院傑出教授、學校董事,H-Technology集團總裁。1998年獲選為美國國家工程學院院士,是該院首位台灣移民美國的華裔女院士。

黃桑院士除了學術界及企業界的傑出成就以外,她一直維持著從中學開始,就重視妝扮及穿著優雅的習慣。她也喜好舞蹈及歌唱。黃桑與夫婿育有一子一女。

參考文獻

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