黄桑希兰
黄桑希兰（英文名：Jennie S. Hwang，1949年—），材料科学家，美国国家工程学院首位台裔、华裔女院士。她的专业研究领域包括芯片封装的材料与制程。
| 黄桑希兰 | |
|---|---|
| 出生 | 1949年（74—75岁） 中国大陆 |
| 国籍 | 中华民国 |
| 头衔 |
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| 学术背景 | |
| 教育程度 | 台北市立第一女子高级中学 国立成功大学化学系 美国哥伦比亚大学硕士 肯特州立大学硕士 凯斯西储大学材料博士 |
| 母校 | 台北市立第一女子中学 国立成功大学 美国哥伦比亚大学 肯特州立大学 凯斯西储大学 |
| 学术工作 | |
| 主要领域 | 表面黏着技术 |
生平
编辑于1949年出生于中国大陆，因为中国政权的易帜而随亲人来台。她的祖父与父母亲都曾担任大学教授。她毕业于台湾北一女中及国立成功大学化学系。1976年取得美国哥伦比亚大学材料工程博士，是该校第一位女性材料博士。此后历任凯斯西储大学材料系教授、工学院杰出教授、学校董事，H-Technology集团总裁。1998年获选为美国国家工程学院院士，是该院首位台湾移民美国的华裔女院士。
黄桑院士除了学术界及企业界的杰出成就以外，她一直维持着从中学开始，就重视妆扮及穿着优雅的习惯。她也喜好舞蹈及歌唱。黄桑与夫婿育有一子一女。