甲磺酸亞錫
化合物
甲磺酸亞錫是一種化合物,化學式為Sn(CH3SO3)2。它可由甲磺酸和氯化亞錫在110~120 °C回流反應製得,[1]或通過錫粉與甲磺酸在140 °C反應得到。[3]它可用於製備Cu6Sn5、Cu2ZnSnS4等含錫材料。[4][5]
甲磺酸亞錫 | ||
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別名 | 甲基磺酸錫(II) 甲磺酸錫(II) 甲烷磺酸亞錫 | |
識別 | ||
CAS號 | 53408-94-9 ![]() | |
性質 | ||
化學式 | C2H6O6S2Sn | |
摩爾質量 | 308.91 g·mol−1 | |
外觀 | 白色固體[1] | |
密度 | 1.53 g·cm−3(50%水溶液)[1] | |
沸點 | 390 °C(分解)[2] | |
溶解性(水) | 可溶 | |
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。 |
參考文獻
編輯- ^ 1.0 1.1 1.2 崔志明, 劉安昌. 甲基磺酸鉛(II)、甲基磺酸錫(II)的製備. 電鍍與精飾, 2001. 23 (4): 26-27.
- ^ 周彩榮, 李秋紅, 王海峰, 李丹, 蔣登高. 甲基磺酸亞錫的熱分析研究. 高校化學工程學報, 2006, 20 (4): 669-672.
- ^ 何柱生. 高純度甲基磺酸亞錫生產新工藝. 化工進展. 2002, 21 (8): 589-591.
- ^ Zhangjian Zhao, Jing Shang, Anmin Hu, Ming Li. The effects of Sn solder grain size on the morphology and evolution of Cu6Sn5 in the aging process. Materials Letters. 2016-12, 185: 92–95 [2021-12-10]. doi:10.1016/j.matlet.2016.08.115. (原始內容存檔於2018-06-24) (英語).
- ^ Dingwang Huang, Kang Wang, Le Yu, Thi Hiep Nguyen, Shigeru Ikeda, Feng Jiang. Over 1% Efficient Unbiased Stable Solar Water Splitting Based on a Sprayed Cu 2 ZnSnS 4 Photocathode Protected by a HfO 2 Photocorrosion-Resistant Film. ACS Energy Letters. 2018-08-10, 3 (8): 1875–1881 [2021-12-10]. ISSN 2380-8195. doi:10.1021/acsenergylett.8b01005 (英語).
拓展閱讀
編輯
- N Martyak, R Seefeldt. On the oxidation of Tin (II) in methanesulfonate solutions and the role of trace chloride. Plating and surface finishing, 2004.
- Martyak, Nicholas M.; Seefeldt, Robert. On the oxidation of tin(II) in methanesulfonate solutions and the role of sulfate. Galvanotechnik, 2005. 96 (3): 594-601. ISSN 0016-4232.